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未到货的EUV光刻机,曾爆发研发大战,近40国家入局

标签: 发布时间: 2020年05月11日 12:14:45 次浏览

1、从最终仅一国胜出的结果看,EUV光刻技术研发难度超过了原子弹。


2、2008 Sematech光刻论坛举办方让专家们就当时的各种光刻技术的市场前景投票,结果EUV光刻技术获得60%的认可,远超其它光刻技术方案。这无疑为系统集成商ASML打了一针鸡血。


3、欧美和日韩发达国家,之所以挤破头也要入局EUV光刻技术,主要是为了替本国的半导体产业抢购未来的车票。


以下为正文:


5月5日,中国最大的晶圆代工厂中芯国际宣布回归A股,确定科创板上市,拟发行16.86亿股份,募集的资金中,40%将投入14nm制程工艺项目。


中芯国际回归A股,表明未来融资通道将更为顺畅,可望缓解制程工艺提升路上的资金饥渴。但市场更关心的,是中芯国际何时能用上EUV光刻机?公司联席CEO梁孟松曾明确表示,后续的5nm、3nm制程工艺,是必须要有EUV光刻机的。





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